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三星為Exynos 2600引入HPB封裝級(jí)散熱技術(shù) 有望解決發(fā)熱問(wèn)題

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據(jù)韓媒ZDNet Korea報(bào)道,三星電子正為其下一代移動(dòng)處理器Exynos 2600引入HPB,技術(shù),并搭配升級(jí)版FOWLP工藝,以應(yīng)對(duì)嚴(yán)重的高性能芯片發(fā)熱問(wèn)題。

這項(xiàng)技術(shù)預(yù)計(jì)將在今年底前完成品質(zhì)驗(yàn)證,最快明年上半年搭載于Galaxy S26系列中量產(chǎn)商用。HPB的全稱為Heat Path Block,據(jù)稱為一種超小型銅基高導(dǎo)熱材料,可與LPDDR DRAM內(nèi)存一道作為封裝的一部分集成在處理器芯片的上方,與芯片頂部或側(cè)面相接觸,用于迅速將核心區(qū)域產(chǎn)生的熱量向外傳導(dǎo)。

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這種模塊與DRAM等組件一體封裝不僅提升了熱擴(kuò)散效率,還能控制封裝厚度和重量,對(duì)智能手機(jī)內(nèi)部空間極其有限的散熱系統(tǒng)來(lái)說(shuō),是一種高度集成化的解決方案。

同時(shí),為進(jìn)一步提升散熱效率,Exynos 2600將采用升級(jí)版的FOWLP工藝。這種封裝方式通過(guò)將I/O接口直接置于硅片之外,在不使用基板的情況下實(shí)現(xiàn)更高的散熱效率和更緊湊的結(jié)構(gòu)。

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三星已經(jīng)在Exynos 2400中使用過(guò)FOWLP,但HPB+FOWLP的組合還是首次出現(xiàn)。

此前有消息稱,由于1.4nm以下工藝節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)進(jìn)度不及預(yù)期,三星Exynos 2600將繼續(xù)基于2nm工藝打造。因此,在后道工藝(如封裝與散熱)上的創(chuàng)新,就成為了彌補(bǔ)制程瓶頸、提升SoC綜合性能的重要手段。

原創(chuàng)文章,作者:HyperZ-Ton,如若轉(zhuǎn)載,請(qǐng)注明出處:http://www.fangsai.com.cn/doc/134914.htm

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