今天，中國光谷官方公眾號宣布，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了巨大突破。

根據(jù)官方介紹，武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

據(jù)悉，T150 A對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列，在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好。

此外，通過驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)，T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

對此，太紫微公司企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會會員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示：

“以原材料的開發(fā)為起點(diǎn)，最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個(gè)開始，我們團(tuán)隊(duì)還會發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜。”